Надо Николя

Способ нанесения тонкого слоя на подложку

Загрузка...

Номер патента: 22598

Опубликовано: 29.01.2016

Авторы: Дюрандо Анн, Надо Николя, Харченко Андрий

МПК: C23C 14/58, C03C 17/00, C03C 17/245...

Метки: способ, слоя, нанесения, тонкого, подложку

Формула / Реферат:

1. Способ покрытия по меньшей мере части поверхности подложки по меньшей мере одним слоем из оксида металла М, содержащий следующие операции:наносят катодным напылением по меньшей мере на часть поверхности подложки по меньшей мере один материал, выбранный из металла М, нитрида металла М или карбида металла М, для получения на поверхности подложки промежуточного слоя, имеющего физическую толщину меньше или равную 20 нм,осуществляют термическую...

Способ получения подложки

Загрузка...

Номер патента: 22242

Опубликовано: 30.11.2015

Авторы: Харченко Андрий, Надо Николя, Реймон Венсан

МПК: C03C 17/36, C03C 23/00

Метки: подложки, получения, способ

Формула / Реферат:

1. Способ получения подложки, покрытой по меньшей мере на одной поверхности низкоэмиссионным пакетом тонких пленок, включающий в себя следующие стадии:осаждают по меньшей мере на одну поверхность подложки пакет тонких пленок, содержащий по меньшей мере одну тонкую пленку серебра по меньшей мере между двумя тонкими диэлектрическими пленками и по меньшей мере одну дополнительную тонкую пленку, причем поглощение упомянутого пакета тонких пленок по...

Способ осаждения тонкого слоя

Загрузка...

Номер патента: 17676

Опубликовано: 28.02.2013

Авторы: Надо Николя, Дюрандо Анн, Харченко Андрий

МПК: C03C 17/34, C03C 17/245, C03C 17/36...

Метки: способ, тонкого, осаждения, слоя

Формула / Реферат:

1. Способ получения материала, содержащего подложку и по меньшей мере один тонкий слой на основе оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллизованный и осажденный на первую сторону указанной подложки, причем указанный способ содержит следующие этапы:осаждают указанный, по меньшей мере один, тонкий слой на основе оксида титана;подвергают указанный, по меньшей мере один, тонкий слой на основе оксида титана кристаллизационной обработке,...

Остекление

Загрузка...

Номер патента: 17637

Опубликовано: 28.02.2013

Авторы: Мартен Эстель, Ретлер Паскаль, Лабрус Лоран, Надо Николя

МПК: B32B 17/06

Метки: остекление

Формула / Реферат:

1. Остекление, включающее в себя подложку (10), снабженную пакетом тонких слоев, содержащим чередующуюся последовательность "n" функциональных металлических слоев (40, 80), обладающих свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения и выполненных на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава, и "(n+1)" покрытий (20, 60, 100), где n - целое число ≥2, причем упомянутые покрытия состоят из...

Способ нанесения тонкого слоя и получаемый с использованием этого способа продукт

Загрузка...

Номер патента: 17494

Опубликовано: 28.12.2012

Авторы: Жи Рене, Харченко Андрий, Надо Николя, Биллерт Ульрих

МПК: C03C 17/245, C03C 17/09, C03C 17/36...

Метки: получаемый, тонкого, способ, продукт, использованием, способа, слоя, нанесения, этого

Формула / Реферат:

1. Способ обработки по меньшей мере одного тонкого сплошного слоя, нанесенного на первую поверхность субстрата, с целью увеличения степени кристалличности упомянутого тонкого слоя, сохраняя его сплошным без осуществления плавления упомянутого тонкого слоя, отличающийся тем, что каждую точку по меньшей мере одного упомянутого тонкого слоя доводят до температуры, равной по меньшей мере 300°С, поддерживая температуру ниже или равной 150°С в любой...

Элемент остекления

Загрузка...

Номер патента: 15109

Опубликовано: 30.06.2011

Авторы: Флери Каринн, Беллио Сильвэн, Надо Николя

МПК: C03C 17/36

Метки: остекления, элемент

Формула / Реферат:

1. Элемент остекления, содержащий прозрачную подложку, снабженную тонкопленочным стеком, содержащим совокупность слоев, отличающийся тем, что указанный тонкопленочный стек содержит по меньшей мере три слоя из серебра, при этом каждый слой из серебра располагается между по меньшей мере одним нижним диэлектрическим слоем на основе ZnO и одним верхним диэлектрическим слоем на основе Si3N4, AlN или на основе смеси этих двух соединений для...

Подложка, покрытая слоем диэлектрика, способ и устройство для её изготовления

Загрузка...

Номер патента: 12048

Опубликовано: 28.08.2009

Авторы: Жирон Жан-Кристоф, Маттман Эрик, Янзен Манфред, Хофрихтер Альфред, Лерген Маркус, Фишер Клаус, Надо Николя, Руссо Жан-Поль, Бобе Кароль

МПК: C03C 17/22, C03C 17/245, C23C 14/34...

Метки: устройство, подложка, диэлектрика, покрытая, изготовления, способ, слоем

Формула / Реферат:

1. Подложка (1) для остеклений, покрытая по меньшей мере одним тонким слоем диэлектрика, полученным нанесением катодного напыления, реакционноспособным в присутствии кислорода, и облучением по меньшей мере одним пучком ионов (3), происходящим из ионного источника (4) при условиях, приводящих к получению кристаллического слоя, вышеупомянутый слой диэлектрика представляет собой слой из оксида металла или кремния, стехиометрического или...

Подложка, покрытая слоем диэлектрика, и способ и устройство для её изготовления

Загрузка...

Номер патента: 11247

Опубликовано: 27.02.2009

Авторы: Янзен Манфред, Бобе Кароль, Маттман Эрик, Фишер Клаус, Лерген Маркус, Хофрихтер Альфред, Жирон Жан-Кристоф, Надо Николя, Руссо Жан-Поль

МПК: C03C 17/36, C03C 17/22, C03C 17/245...

Метки: подложка, способ, устройство, диэлектрика, покрытая, изготовления, слоем

Формула / Реферат:

1. Способ нанесения покрытия на подложку (1), включающий формирование по меньшей мере одного тонкого слоя диэлектрика на подложку катодным напылением в камере напыления (2) и облучение его по меньшей мере одним пучком ионов (3), отличающийся тем, что пучок ионов в камере напыления формируют при помощи линейного ионного источника, при этом требуемое значение показателя преломления вышеупомянутого слоя диэлектрика задают посредством изменения...