Марышев Сергей Павлович

Дисплейное сенсорное стекло

Загрузка...

Номер патента: 21104

Опубликовано: 30.04.2015

Авторы: Марышев Сергей Павлович, Ширипов Владимир Яковлевич, Лин Син Люнь, Хохлов Евгений Александрович

МПК: B32B 17/06, G02F 1/00

Метки: дисплейное, стекло, сенсорное

Формула / Реферат:

1. Дисплейное сенсорное стекло, содержащее окно для зоны индикации с нанесенной тонкой сенсорной пленкой и расположенную по контуру стекла в зоне электрических проводников непрозрачную диэлектрическую маску, отличающееся тем, что маска выполнена многослойной из диэлектрического непрозрачного светопоглощающего слоя и контактирующих с ним прозрачных нанослоев с различными коэффициентами преломления из полупроводников, а также оксидов и нитридов...

Способ формирования тонких пленок cigs для солнечных батарей и устройство для его реализации

Загрузка...

Номер патента: 20377

Опубликовано: 30.10.2014

Авторы: Марышев Сергей Павлович, Ширипов Владимир Яковлевич, Хохлов Евгений Александрович, Насточкин Сергей Михайлович

МПК: H01L 21/203, H01L 31/18

Метки: реализации, батарей, пленок, солнечных, тонких, способ, формирования, устройство

Формула / Реферат:

1. Способ формирования тонких пленок CIGS для солнечных батарей большого размера путем послойного нанесения в вакууме CIGS-пленки на подложку из листового стекла с предварительно нанесенным на нее слоем токопроводящего молибдена в вакуумном коридоре линии непрерывного действия, отличающийся тем, что материал наносят последовательными слоями методом реактивного распыления в парах элементарного селена с использованием последовательно расположенных...

Способ ионной обработки поверхности диэлектрика и устройство для осуществления способа

Загрузка...

Номер патента: 9514

Опубликовано: 28.02.2008

Авторы: Левчук Николай Евгеньевич, Марышев Сергей Павлович, Савенко Владимир Анатольевич, Хисамов Айрат Хамитович, Хохлов Александр Евгеньевич, Ширипов Владимир Яковлевич

МПК: C23C 14/35, H01J 37/317, C23C 14/48...

Метки: обработки, поверхности, способа, ионной, осуществления, устройство, диэлектрика, способ

Формула / Реферат:

1. Способ ионной обработки поверхности диэлектрика, включающий формирование направленного потока ионов и направленного потока электронов, воздействие ими на обрабатываемую поверхность диэлектрика, при этом поток электронов служит для нейтрализации положительного заряда, возникающего на поверхности диэлектрика, отличающийся тем, что поток электронов формируют с помощью плазменного катодного разряда и туннелеобразного магнитного поля, при этом...

Способ нанесения пленок нитрида кремния в вакууме (варианты)

Загрузка...

Номер патента: 9303

Опубликовано: 28.12.2007

Авторы: Левчук Николай Евгеньевич, Хохлов Александр Евгеньевич, Хисамов Айрат Хамитович, Марышев Сергей Павлович, Ширипов Владимир Яковлевич

МПК: C23C 14/46, H01L 21/203

Метки: кремния, варианты, нитрида, пленок, способ, вакууме, нанесения

Формула / Реферат:

1. Способ нанесения пленок нитрида кремния в вакууме на неподвижно установленную подложку, при котором в вакуумную камеру подают смесь рабочих газов: азота и аргона, формируют ионный пучок по крайней мере из одного источника ионов, мишень из кремния распыляют направленным ионным пучком, а распыленный материал осаждают на подложку послойно путем сканирования ее поверхности, при этом источник ионов вместе с мишенью перемещают...

Способ очистки теневых масок в производстве дисплеев (варианты) и устройство для его реализации

Загрузка...

Номер патента: 8187

Опубликовано: 27.04.2007

Авторы: Ширипов Владимир Яковлевич, Хисамов Айрат Хамитович, Марышев Сергей Павлович

МПК: H01L 21/3065, C23C 14/46, C23C 14/50...

Метки: дисплеев, реализации, способ, устройство, очистки, масок, варианты, теневых, производстве

Формула / Реферат:

1. Способ очистки теневых масок в производстве дисплеев, включающий формирование ионного пучка в вакуумной камере с помощью источника ионов, размещение маски в камере напротив эмиссионной поверхности источника ионов, отличающийся тем, что в вакуумной камере устанавливают охлаждаемый держатель, в котором размещают маску, при этом обрабатываемую поверхность маски, обращенную в сторону эмиссионной поверхности источника ионов, сканируют...

Вакуумный кластер для нанесения покрытий на подложку (варианты)

Загрузка...

Номер патента: 7701

Опубликовано: 29.12.2006

Авторы: Ширипов Владимир Яковлевич, Левчук Николай Евгеньевич, Хисамов Айрат Хамитович, Марышев Сергей Павлович

МПК: H01J 37/317, C23C 14/56

Метки: покрытий, вакуумный, варианты, подложку, кластер, нанесения

Формула / Реферат:

1. Вакуумный кластер для нанесения покрытий на подложку, включающий вакуумную камеру, подложкодержатель, предназначенный для установки подложки, технологическое устройство для нанесения покрытий на подложку и механизм перемещения технологического устройства, установленный с возможностью возвратно-поступательного движения параллельно поверхности подложкодержателя и/или подложки, отличающийся тем, что вакуумная камера снабжена основным и по...

Вакуумный модуль (его варианты) и система модулей для нанесения покрытий на подложку

Загрузка...

Номер патента: 3148

Опубликовано: 27.02.2003

Авторы: Марышев Сергей Павлович, Хохлов Александр Евгеньевич, Ширипов Владимир Яковлевич, Левчук Николай Евгеньевич

МПК: C23C 14/54

Метки: варианты, система, вакуумный, его, модуль, подложку, модулей, нанесения, покрытий

Формула / Реферат:

1. Вакуумный модуль для нанесения покрытий на подложку, включающий вакуумную камеру, снабженную отверстием, предназначенным для установки подложки, уплотнительным элементом и технологическим устройством, предназначенным для нанесения покрытий, вакуумный затвор, установленный в плоскости, параллельной плоскости отверстия вакуумной камеры и предназначенный для отделения части объема камеры с технологическим устройством от отверстия, и механизм...