Харченко Андрий

Способ нанесения тонкого слоя на подложку

Загрузка...

Номер патента: 22598

Опубликовано: 29.01.2016

Авторы: Надо Николя, Харченко Андрий, Дюрандо Анн

МПК: C23C 14/58, C03C 17/245, C03C 17/00...

Метки: тонкого, слоя, нанесения, способ, подложку

Формула / Реферат:

1. Способ покрытия по меньшей мере части поверхности подложки по меньшей мере одним слоем из оксида металла М, содержащий следующие операции:наносят катодным напылением по меньшей мере на часть поверхности подложки по меньшей мере один материал, выбранный из металла М, нитрида металла М или карбида металла М, для получения на поверхности подложки промежуточного слоя, имеющего физическую толщину меньше или равную 20 нм,осуществляют термическую...

Способ получения подложки

Загрузка...

Номер патента: 22242

Опубликовано: 30.11.2015

Авторы: Харченко Андрий, Реймон Венсан, Надо Николя

МПК: C03C 23/00, C03C 17/36

Метки: получения, способ, подложки

Формула / Реферат:

1. Способ получения подложки, покрытой по меньшей мере на одной поверхности низкоэмиссионным пакетом тонких пленок, включающий в себя следующие стадии:осаждают по меньшей мере на одну поверхность подложки пакет тонких пленок, содержащий по меньшей мере одну тонкую пленку серебра по меньшей мере между двумя тонкими диэлектрическими пленками и по меньшей мере одну дополнительную тонкую пленку, причем поглощение упомянутого пакета тонких пленок по...

Материал и остекление, содержащее этот материал

Загрузка...

Номер патента: 20943

Опубликовано: 27.02.2015

Авторы: Сандр-Шардонналь Этьенн, Толла Эмили, Дюрандо Анн, Харченко Андрий, Мовернэ Брюно, Биллерт Ульрих, Жилле Пьер-Ален

МПК: C03C 17/36, C03C 17/34

Метки: материал, содержащее, остекление

Формула / Реферат:

1. Материал, содержащий стеклянную основу, покрытую по меньшей мере на одной из своих сторон укладкой тонких слоев, содержащей в направлении от указанной основы по меньшей мере один нижний диэлектрический слой, по меньшей мере один функциональный слой из металла или нитрида металла, по меньшей мере один верхний диэлектрический слой, по меньшей мере один слой оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллизованный в форме анатаза, причем...

Способ осаждения тонкого слоя

Загрузка...

Номер патента: 17676

Опубликовано: 28.02.2013

Авторы: Надо Николя, Дюрандо Анн, Харченко Андрий

МПК: C03C 17/245, C03C 17/36, C03C 17/34...

Метки: способ, тонкого, слоя, осаждения

Формула / Реферат:

1. Способ получения материала, содержащего подложку и по меньшей мере один тонкий слой на основе оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллизованный и осажденный на первую сторону указанной подложки, причем указанный способ содержит следующие этапы:осаждают указанный, по меньшей мере один, тонкий слой на основе оксида титана;подвергают указанный, по меньшей мере один, тонкий слой на основе оксида титана кристаллизационной обработке,...

Способ нанесения тонкого слоя и получаемый с использованием этого способа продукт

Загрузка...

Номер патента: 17494

Опубликовано: 28.12.2012

Авторы: Жи Рене, Биллерт Ульрих, Харченко Андрий, Надо Николя

МПК: C03C 17/09, C03C 17/245, C03C 17/36...

Метки: тонкого, получаемый, способа, этого, нанесения, слоя, способ, использованием, продукт

Формула / Реферат:

1. Способ обработки по меньшей мере одного тонкого сплошного слоя, нанесенного на первую поверхность субстрата, с целью увеличения степени кристалличности упомянутого тонкого слоя, сохраняя его сплошным без осуществления плавления упомянутого тонкого слоя, отличающийся тем, что каждую точку по меньшей мере одного упомянутого тонкого слоя доводят до температуры, равной по меньшей мере 300°С, поддерживая температуру ниже или равной 150°С в любой...