Карбидовольфрамовые покрытия и способ их изготовления

Номер патента: 3063

Опубликовано: 26.12.2002

Авторы: Лахоткин Юрий Викторович, Кузьмин Владимир Петрович

Есть еще 6 страниц.

Смотреть все страницы или скачать PDF файл.

Формула / Реферат

1. Материал для покрытий, устойчивых к износу, эрозии и коррозии, представляющий собой карбид вольфрама, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%.

2. Материал по п.1, представляющий собой монокарбид вольфрама WC, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%.

3. Материал по п.1, представляющий собой полукарбид вольфрама W2C, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%.

4. Материал по п.1, представляющий собой субкарбид вольфрама W3C, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%.

5. Материал по п.1, представляющий собой субкарбид вольфрама W12C, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%.

6. Материал по пп.1-5, отличающийся тем, что он дополнительно содержит фторуглеродные композиции с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%.

7. Материал для покрытий, устойчивых к износу, эрозии и коррозии, представляющий собой смесь, по меньшей мере, двух карбидов вольфрама, легированных фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%.

8. Покрытие, отличающееся тем, что оно включает внутренний слой, нанесенный на подложку, выполненный из вольфрама, и внешний слой, нанесенный на указанный внутренний слой и содержащий карбид вольфрама в соответствии с пп.1-6.

9. Покрытие по п.6, отличающееся тем, что внешний слой дополнительно содержит смесь карбидов вольфрама в соответствии с п.7.

10. Покрытие по п.8 или 9, отличающееся тем, что внешний слой дополнительно содержит вольфрам.

11. Покрытие по п.8 или 9, отличающееся тем, что внешний слой дополнительно содержит углерод.

12. Покрытие по любому из пп.8-11, отличающееся тем, что внутренний слой имеет толщину 0,5-300 мкм, наружный слой имеет толщину 0,5-300 мкм при соотношении толщины внутреннего и наружного слоев от 1:1 до 1:600.

13. Способ получения покрытий из карбидов вольфрама путем химического газофазного осаждения на нагретой подложке с использованием смеси газов, включающей гексафторид вольфрама, водород, углеродсодержащий газ и, не обязательно, инертный газ, отличающийся тем, что углеродсодержащий газ предварительно активируют путем нагрева до температуры 500-850шС.

14. Способ по п.13, отличающийся тем, что в качестве углеродсодержащего газа используют пропан.

15. Способ по пп.13-14, отличающийся тем, что процесс ведут при давлении 2-150 кПа, температуре подложки 400-900шС, соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,2-1,7, соотношении гексафторида вольфрама к водороду 0,02-0,12.

16. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 1,0-1,5, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,10, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 750-850шС, при этом получают монокарбид вольфрама WC.

17. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,75-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,06-0,08, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-750шС, при этом получают полукарбид вольфрама W2C.

18. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,05-0,055, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-720шС, при этом получают субкарбид вольфрама W3C.

19. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,45, гексафторида вольфрама к водороду 0,040-0,045, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-700шС, при этом получают субкарбид вольфрама W12C.

20. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,90-1,00, гексафторида вольфрама к водороду 0,07-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 670-790шС, при этом получают смесь карбидов WC и W2C.

21. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,75, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 580-730шС, при этом получают смесь карбидов W2C и W3С.

22. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-700шС, при этом получают смесь карбидов W2C и W12C.

23. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,45-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,050, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 550-680шС, при этом получают смесь карбидов W3C и W12C.

24. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,65-0,70, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-710шС, при этом получают смесь карбидов W2C, W3С и W12C.

25. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720шС, при этом получают смесь карбида WC и вольфрама.

26. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720шС, при этом получают смесь карбида W2C и вольфрама.

27. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-700шС, при этом получают смесь карбида W3C и вольфрама.

28. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,20-0,35, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-680шС, при этом получают смесь карбида W12C и вольфрама.

29. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,05-0,07, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-680шС, при этом получают смесь карбидов W3C, W12C и вольфрама.

30. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 1,50-1,70, гексафторида вольфрама к водороду 0,10-0,12, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 750-850шС, при этом получают смесь карбида WC и углерода.

31. Способ нанесения на подложки, преимущественно на конструкционные материалы и изделия из них, покрытия, включающего в себя внутренний слой вольфрама и внешний слой, содержащий карбид вольфрама, отличающийся тем, что он включает в себя следующие стадии:

а) помещение подложки в реактор химического газофазного осаждения,

б) вакуумирование реактора,

в) нагрев указанной подложки,

г) подачу в реактор гексафторида вольфрама и водорода,

д) выдерживание подложки в указанной газовой среде в течение времени, необходимого для образования на подложке слоя вольфрама,

е) подачу в реактор дополнительно к указанным гексафториду вольфрама и водороду углеродсодержащего газа, причем углеродсодержащий газ предварительно термически активируют,

ж) выдерживание подложки в газовой среде, образованной на стадии е), в течение времени, необходимого для образования на подложке внешнего слоя, содержащего карбиды вольфрама или шх смеси между собой, с вольфрамом или свободным углеродом.

32. Способ по п.31, отличающийся тем, что процесс ведут при давлении в реакторе 2-150 кПa, температуре подложки 400-900шС, соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,2-1,7, соотношении гексафторида вольфрама к водороду 0,02-0,12.

33. Способ по п.31, отличающийся тем, что перед нанесением покрытия на материалы или изделия из материалов, выбранных из группы, включающей железо, углеродистые стали, нержавеющие стали, чугуны, титановые сплавы, титаносодержащие твердые сплавы, на них наносят покрытие из материалов, химически стойких во фтористом водороде, в частности никеля, кобальта, меди, серебра, золота, платины, иридия, тантала, молибдена, их сплавов, соединений и смесей, путем электрохимического или химического осаждения из водных растворов, электролиза расплавов, физического и химического газофазного осаждения.

34. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 1,00-1,50, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,10, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 750-850шС, при этом получают внешний слой, содержащий мoнокарбид вольфрама WC.

35. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,75-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,06-0,08, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-750шС, при этом получают внешний слой, содержащий полукарбид вольфрама W2C.

36. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,050-0,055, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-720шС, при этом получают внешний слой, содержащий субкарбид вольфрама W3C.

37. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,40, гексафторида вольфрама к водороду 0,040-0,045, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-700шС, при этом получают внешний слой, содержащий субкарбид вольфрама W12C.

38. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,90-1,00, гексафторида вольфрама к водороду 0,07-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 670-790шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов WC с W2C.

39. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,75, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 580-730шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов W2C с W3C.

40. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,65-0,70, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-710шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов W2C, W3C и W12C.

41. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-700шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов W2C и W12C.

42. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,40-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,050, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 550-680шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов W3С и W12C.

43. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида W2C с вольфрамом.

44. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-700шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида W3C с вольфрамом.

45. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,050-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-690шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов W3C и W12C с вольфрамом.

46. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,20-0,35, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-680шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида W12C с вольфрамом.

47. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720шС, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида WC с вольфрамом.

48. Способ по любому из пп.31-47, отличающийся тем, что покрытия наносят на узлы трения.

49. Способ по любому из пп.31-47, отличающийся тем, что покрытия наносят на формующий инструмент для обработки материалов давлением.

50 Способ по любому из пп.31-47, отличающийся тем, что покрытия наносят на узлы машин и механизмов, работающих со сжатыми газами и жидкостями, или иных пневмогидравлических систем.

51. Материал, включающий подложку из конструкционного материала; нанесенное на указанную подложку покрытие, причем покрытие включает внутренний слой, выполненный из вольфрама, и внешний слой, содержащий карбид вольфрама, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%.

52. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой монокарбид WC.

53. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой полукарбид W2C.

54. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид W3C.

55. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид W12C.

56. Материал, включающий подложку из конструкционного материала; нанесенное на указанную подложку покрытие, причем покрытие включает внутренний слой из вольфрама и внешний слой, содержащий смесь, по меньшей мере, двух карбидов вольфрама, легированных фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%.

57. Материал по п.56, отличающийся тем, что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама WC и W2C.

58. Материал по п.56, отличающийся тем, что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W3C и W2C.

59. Материал по п.56, отличающийся тем, что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W3C и W12C.

60. Материал по п.56, отличающийся тем, что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W2C и W12C.

61. Материал по п.56, отличающийся тем, что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W2C, W3C и W12C.

62. Материал по пп.52-61, отличающийся тем, что внешний слой дополнительно содержит вольфрам.

63. Материал по пп.52-61, отличающийся тем, что внешний слой дополнительно содержит углерод.

64. Материал по пп.52-63, отличающийся тем, что внутренний слой имеет толщину 0,5-300 мкм при соотношении толщины внутреннего и внешнего слоев от 1:1 до 1:600.

65. Материал по яя.52-64, отличающийся тем, что внешний слой подложки содержит сплавы с содержанием никеля выше 25 эт.%, например инвар, нихром, монeль.

66. Материал, полученный способом по любому из пп.31-47.

67. Многослойное покрытие, выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбид вольфрама в соответствии с пп.1-6.

68. Многослойное покрытие, выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих смесь карбидов вольфрама в соответствии с п.7.

69. Многослойное покрытие по пп.67-68, отличающееся тем, что отдельные его слои имеют толщину от 2 до 10 мкм при соотношении толщины чередующихся слоев от 1:1 до 1:5.

70. Способ нанесения на подложки, преимущественно на конструкционные материалы и изделия из них, многослойного покрытия в виде чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбид вольфрама, или их смеси между собой, с вольфрамом или свободным углеродом, включающий в себя следующие стадии:

а) помещение подложки в реактор химического газофазного осаждения,

б) вакуумирование реактора,

в) нагрев указанной подложки,

г) подачу в реактор гексафторида вольфрама и водорода,

д) выдерживание подложки в указанной газовой среде в течение времени, необходимого для образования на подложке слоя вольфрама,

е) подачу в реактор дополнительно к указанным гексафториду вольфрама и водороду углеродсодержащего газа, причем углеродсодержащий газ предварительно термически активируют,

ж) выдерживание подложки в газовой среде, образованной на стадии е) в течение времени, необходимого для образования на подложке слоя, содержащего карбид вольфрама или смеси карбидов вольфрама между собой, с вольфрамом и углеродом, причем стадии г-ж) повторяют многократно для образования чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбиды вольфрама.

71. Способ по п.70, отличающийся тем, что процесс ведут при давлении в реакторе 2-150 кПа, температуре подложки 400-900шС, соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,2-1,7, соотношении гексафторида вольфрама к водороду 0,02-0,12.

72. Способ по п.70, отличающийся тем, что перед нанесением покрытия на материалы или изделия из материалов, выбранных из группы, включающей железо, углеродистые стали, нержавеющие стали, чугуны, титановые сплавы, титаносодержащие твердые сплавы, на них наносят покрытие из материалов, химически стойких во фтористом водороде, в частности никеля, кобальта, меди, серебра, золота, платины, иридия, тантала, молибдена, их сплавов, соединений и смесей, путем электрохимического или химического осаждения из водных растворов, электролиза расплавов, физического и химического газофазного осаждения.

73. Способ по любому из пп.70-72, отличающийся тем, что покрытие наносят на узлы трения.

74. Способ по любому из пп.70-72, отличающийся тем, что покрытие наносят на формующий инструмент для обработки металлов давлением.

75. Способ по любому из пп.70-72, отличающийся тем, что покрытие наносят на узлы машин и механизмов, работающих со сжатыми газами и жидкостями, или иных пневмогидравлических систем.

76. Конструкционный материал, включающий подложку и многослойное покрытие, выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбид вольфрама, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%.

77. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой монокарбид вольфрама WC.

78. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой полукарбид вольфрама W2C.

79. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид вольфрама W3C.

80. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид вольфрама W12C.

81. Конструкционный материал, включающий подложку и многослойное покрытие, выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих смесь, по меньшей мере, двух карбидов вольфрама, легированных фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%.

82. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрама WC и W2C.

83. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрама W2C и W3C.

84. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрама W3C и W12C.

85. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрама W2C и W12C.

86. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрама W2C, W3C и W12C.

87. Материал по любому из пп.76-86, отличающийся тем, что карбидные слои дополнительно содержат вольфрам.

88. Материал по любому из пп.76-86, отличающийся тем, что карбидные слои дополнительно содержат углерод.

89. Материал по любому из пп.76-88, отличающийся тем, что отдельные его слои имеют толщину от 2 до 10 мкм при соотношении толщины чередующихся слоев от 1:1 до 1:5.

90. Конструкционный материал, полученный способом по любому из пп.70-72.

 

Текст

Смотреть все

1 Область техники Изобретение относится к технологии нанесения композиционных поверхностных систем,обладающих высокой износо-, эрозионно- и химической стойкостью. Более точно, изобретение относится к технологии нанесения покрытий,которые включают карбиды вольфрама, их смеси между собой, с вольфрамом или со свободным углеродом. Особо твердые, эрозионно- и коррозионно-стойкие покрытия, в том числе с использованием карбидов вольфрама, широко используются для изготовления различных изделий и инструментов в современном машиностроении. Такие покрытия обладают высокой эрозионной, химической и износостойкостью, и таким образом существенно повышают срок службы различных изделий машиностроения и инструментов, работающих в жестких эксплуатационных условиях. Уровень техники В патенте GB 2 179 678 А описана поверхностная композитная система с высокой износои эрозионной стойкостью, состоящая из смеси вольфрама для обеспечения пластичности и карбида вольфрама W2C для обеспечения твердости. Эти твердые покрытия из мелкозернистой смеси карбида вольфрама с металлическим вольфрамом были получены методом физического газофазного осаждения (PVD), путем распыления вольфрама и углерода, содержащихся в отдельных мишенях. На подложках различного типа вольфрам и углерод конденсируются, образуя названные сплавы вольфрама с карбидом вольфрама. Однако скорость синтеза карбидов вольфрама очень низка, внутренние напряжения в осадках резко возрастают по мере роста вольфрамуглеродного слоя, что приводит к отслаиванию покрытия. По этой причине получить достаточно толстые покрытия PVD-методом не удается. Кроме того, метод физического газофазного осаждения принципиально не пригоден для нанесения покрытий на изделия сложной геометрии из-за невозможности осаждения покрытий на затененных по отношению к падающему пучку участках изделия. Процесс химического газофазного осаждения (CVD) исключает эти недостатки. CVDпроцесс может быть использован для нанесения абразивно-, эрозионно- и износостойких, твердых покрытий на подложках и изделиях сложной геометрии. В типичном CVD-процессе нанесения композитных покрытий подложка нагревается в реакционной камере и затем предварительно смешанные газообразные реагенты вводятся в эту камеру. Изменением состава реакционной смеси и параметров процесса (температура подложки, состав реакционной смеси, скорость потока, общее давление в реакционной смеси,температура подаваемых газов и т.д.) могут быть получены различные покрытия. 2 Среди CVD-методов осаждения W-C покрытий только фторидный метод позволяет формировать карбиды вольфрама высокого качества при низкой температуре. Для этого вCVD-процессе используют термическое разложение смеси гексафторида вольфрама, водорода и углеродсодержащего газа. В качестве углеродсодержащих газов использовались различные реагенты, например диметилэфир, амины, пропилен и т.д., с помощью которых можно синтезировать карбид вольфрама одного или двух составов. Например, при помощи термического разложения диметилэфира (DME) [ЕП 0 328 084W+W2C в виде двухслойных покрытий. Вольфрамовый внутренний слой покрытия получен из газовой смеси WF6 (0,3 л/мин), Н 2 (3 л/мин), Аr(4,0 л/мин) при 460 С. Внешний слой из смеси вольфрама с W3 С получен из смеси WF6 (0,3 л/мин), Н 2 (3 л/мин) и DME (0,4 л/мин) при 460 С и общем давлении 40 тор. Внешнее покрытие W+W2C+W3C получено из смеси WF6(0,3 л/мин), Н 2 (3 л/мин) и DME (0,55 л/мин) при 460 С и общем давлении 40 тор. Внешнее покрытие W+W2C получено из смеси WF6 (0,3 л/мин), Н 2 (3 л/мин), Аr (4,5 л/мин) и DME (0,85 л/мин) при 460 С и общем давлении 40 тор. По патенту JP 9113527 А 19910204 из газообразной смеси WF6, Н 2 и аминов с атомным соотношением С к N, равным 1-20, и Н к W, равным 1-15,при 400-900 С получен WC. Приведено получение WC из смеси WF6:триметиламин:Н 2=1:2:3(атомное соотношение C/W=6,0, H/W=6,0), скорость потока 120 см 3/мин при 800 С, атмосферном общем давлении, в течение 30 мин в виде слоя толщиной 70 мкм. По патенту JP 8857301 А 19880310 из газообразной смеси WF6, Н 2 и ароматического углеводорода с атомным соотношением C/W,равным 2-10, и Н/С более 3 при температуре 250-500 С получено покрытие из W3C на подложке из алюминия. Согласно патенту JP 84280063 А 19841228 из газообразной смеси WF6, С 3 Н 6 и Н 2 с инертным газом на графитовой подложке получено покрытие из W2C. Преимущественный режим: смесь WF6:H2=1:3-1:15 с добавкой С 3 Н 6 в реакционной смеси с мольным соотношением 0,010,3; температура подложки 350-600 С. По патенту JP 84204563 А 19840929 из газообразной смеси WF6, Н 2 (мольное соотношение WF6:H2=1:3-1:15) и циклопропана с мольным соотношением в смеси 0,01-0,3 при температуре подложки 350-600 С получено покрытие из W2C. В примере приведено получение покрытия из W2C на медной подложке из смесиWF6: 40, Н 2: 320, Ar: 40, С 3 Н 8: 10 см 3/мин при 500 С со скоростью роста 3,3 мкм/мин. В ЕП А 0 305 917 описаны особо твердые,мелкозернистые,нестолбчатые,слоистые вольфрамуглеродные сплавы, которые получены химическим осаждением из газовой фазы. 3 Описанные сплавы содержат карбидные фазы,состоящие из W2C или W3C или из их смеси между собой. Показано, что эти вольфрамуглеродные сплавы, нанесенные на некоторые типы подложек, содержат сетку очень тонких микротрещин по всему осадку. Покрытия из этих сплавов обладают недостаточным сопротивлением к эрозии и износу. В ЕП 0 411 646 AI описано многослойное покрытие, содержащее последовательно чередующиеся слои вольфрама и смеси вольфрама с карбидами вольфрама в видеW2C, W3C или их смеси. Показано, что такое покрытие повышает абразивную и эрозионную стойкость материала. Однако известно, что максимальный композиционный эффект наблюдается для слоев с резкой границей между ними. Этого, естественно, не наблюдается при сопряжении слоев вольфрама и смеси вольфрама с карбидом вольфрама, что характерно для этого патента. Сущность изобретения Как следует из представленных выше патентов, для получения различных видов карбидов вольфрама используются различные реагенты и различные технологии. В связи с этим основной задачей, решаемой настоящим изобретением, являлось создание универсальной технологии, позволяющей получать как все известные карбиды, так и их смеси, и более того, новые карбиды. Кроме того, продолжает оставаться актуальной и задача повышения твердости покрытийW-C, поскольку именно с твердостью связаны такие потребительские характеристики, как прочность и износостойкость покрытий. Решение этих и других задач обеспечивается настоящим изобретением благодаря созданию нового способа получения карбидов вольфрама и их смесей, основной особенностью которого является предварительная термическая активация углеводородов, используемых в CVDпроцессе. Синтез W-C слоя определенного состава зависит от температуры активации, которая варьируется от 500-850 С, общего давления в реакторе (от 2 до 150 кПа) и парциального давления углеводородного реагента. Предварительная активация углеводородов приводит к формированию в газовой фазе необходимой концентрации углеводородных радикалов и их ассоциаций с фтором в широком диапазоне. С помощью предложенного способа удается легировать карбиды и/или их смеси фтором и фторуглеродными композициями. Фтор, как наиболее химически активный элемент, внедряясь в решетку карбида, усиливает межатомную связь. Усиление межатомной связи в карбиде и приводит к повышению твердости. Этот процесс подобен образованию оксикарбидных фаз, вместо чисто карбидных структур. С другой стороны,фтор стабилизирует структуру низкотемпературных фаз - субкарбидов вольфрама, благодаря высокой энергии связи фтор-углерод. Наряду с 4 элементарным фтором в состав карбида вольфрама могут быть введены и фторуглеродные композиции с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. Эти добавки выполняют двоякую роль: во-первых, они повышают твердость карбидов вольфрама и, во-вторых,стабилизируют структуру субкарбидов вольфрама. Таким образом, при помощи введения фтора и фторуглеродных добавок удалось получить карбиды вольфрама, такие как монокарбидWC, полукарбид W2C, субкарбиды W3C и W12C. С использованием новых карбидов вольфрама может быть изготовлено двуслойное покрытие,внутренний слой которого (наносимый на подложку - конструктивный материал или изделие из него) выполнен из вольфрама, а наружный слой содержит карбид вольфрама, легированный фтором и, возможно, фторуглеродными композициями, или смеси таких карбидов между собой, а также с вольфрамом и со свободным углеродом. Конструкционный материал с нанесенным композиционным покрытием имеет внутренний слой вольфрама толщиной 0,5-300 мкм, а наружный слой имеет толщину 0,5-300 мкм при соотношении толщин внутреннего и наружного слоев от 1:1 до 1:600. Карбиды вольфрама согласно настоящему изобретению осаждают в химическом реакторе на подложку из газовой фазы, включающей гексафторид вольфрама, водород, углеродсодержащий газ, например пропан и, необязательно,инертный газ, например аргон. Углеродсодержащий газ перед вводом в реактор термически активируют путем нагрева до 500-850 С, процесс ведут при давлении в реакторе от 2 до 150 кПа, подложку нагревают до температуры 400900 С. Соотношение углеродсодержащего газа к водороду варьируется от 0,2 до 1,7, гексафторида вольфрама к водороду - от 0,02 до 0,12. Параметры процесса в указанных пределах определяются в зависимости от того, какой карбид или смесь карбидов между собой, или с вольфрамом, или с углеродом, необходимо получить. Так, для получения монокарбида вольфрама WC предварительную термоактивацию углеродсодержащего газа проводят при температуре 750-850 С, соотношение пропана к водороду устанавливают в интервале 1,00-1,50, гексафторида вольфрама к водороду - 0,08-0,10. Для получения однофазного полукарбида вольфрама W2C указанные значения соответственно равняются 600-750 С, 0,75-0,90 и 0,06-0,08; для получения субкарбида вольфрама W3C 560-720C, 0,60-0,65 и 0,050-0,055. Способом согласно настоящему изобретению был получен и неизвестный ранее субкарбид вольфрама W12C с максимальной твердостью по отношению к известным карбидам, доходящей до 3500 кг/мм 2. Для его получения пропан подвергался термической активации до 500-700 С, соотношение пропана к водороду устанавливалось в интервале 0,35-0,40, гексафторида вольфрама к водоро 5 ду - от 0,040 до 0,045. Данный способ позволяет получать и смеси карбидов вольфрама, а также смеси карбидов со свободными вольфрамом и углеродом. Значения указанных параметров для этих случаев приведены в таблице. Соотношение гексафторида вольфрама к водороду 0,07-0,09 0,055-0,060 0,045-0,060 0,045-0,050 Как уже указано выше, за счет предварительной термической активации исходного углеродсодержащего реагента осуществляется регулирование содержания активных углеводородных радикалов в широких пределах. Это позволяет формировать карбидные фазы и их смеси с содержанием свободного углерода до 15 вес.%. Термическую активацию углеродсодержащего реагента проводят во фтороводородной атмосфере, что способствует дополнительному образованию фторуглеродных радикалов. Радикалы обоих видов участвуют в легировании карбидных фаз и их смесей фтором и углеродом, что способствует повышению их прочностных и триботехнических свойств. При росте покрытий из однофазных карбидов вольфрама внутренние напряжения в них нарастают медленно и высокая износостойкость этих покрытий наблюдается при достаточно большой толщине (до 300 мкм). Их химическая стойкость и высокая твердость обусловлены сильной межатомной связью атомов в решетке карбидов и отсутствием свободного вольфрама. Для реализации микропластического эффекта в покрытиях используются смеси карбидов между собой, их смеси с вольфрамом или свободным углеродом, несколько теряя при этом химическую или электрохимическую стойкость. Необходимо отметить, что покрытия из карбидов вольфрама со свободным углеродом, кроме реализации отмеченного микропластического эффекта, имеют пониженный коэффициент трения. Последнее чрезвычайно важно при использовании смесей карбидов со свободным углеродом в качестве износостойких, триботехнических покрытий в узлах трения. На основе настоящего изобретения и с использованием указанного нового способа нанесения покрытий могут быть получены и многослойные покрытия с чередованием слоев вольфрама и слоев, содержащих карбиды вольфрама, легированные 6 фтором и, возможно, фторуглеродными композициями, в том числе в смеси между собой, с вольфрамом или углеродом. Толщины отдельных чередующихся слоев находятся в соотношении от 1:1 до 1:5. Объектом настоящего изобретения является и сам конструкционный материал, имеющий двуслойное или многослойное покрытие, выполненное согласно настоящему изобретению. Примеры осуществления изобретения Хотя не исключается возможность использования самих карбидов вольфрама, получаемых в соответствии с настоящим изобретением,в качестве конструкционного материала, однако преимущественным случаем их использования является нанесение их на конструкционные материалы и изделия из них в качестве износостойких покрытий. Поэтому представленные ниже примеры иллюстрируют изобретение именно на случаях осаждения карбидов на подложки в качестве их покрытий. Однако эти случаи не ограничивают объема изобретения только ими, поскольку возможно получение патентуемым способом и других комбинаций карбидов вольфрама между собой, и/или с вольфрамом, и/или с углеродом. Представленные примеры касаются получения сложных покрытий,когда слой покрытия, содержащий тот или иной карбид вольфрама или смеси карбидов между собой, с вольфрамом, углеродом, осаждается на слой вольфрама, осажденный до этого на подложку. Примеры охватывают случаи двуслойных покрытий (внутренний слой вольфрама и внешний, содержащий карбид(ы) вольфрама) и многослойных покрытий, с чередованием слоев вольфрама и слоев, содержащих карбид(ы) вольфрама. Конструкционный материал, на который наносят композитное покрытие (или его внешний по отношению к покрытию слой, в случае биметалла) содержит основу из различных сортов твердого сплава, керамик, таких как карбид кремния, нитрид кремния, оксид алюминия, циркония, углерод-углеродные композиционные материалы и т.д., ряда железосодержащих сплавов, таких как железо, углеродистые стали, нержавеющие стали, инструментальные и быстрорежущие стали, чугуны или иные материалы, выбранные из ряда медь, серебро, золото, кобальт, никель, родий, рений, платина, иридий, кремний, тантал, ниобий, ванадий, вольфрам, молибден, углерод, азот, бор, их сплавы,соединения и смеси, а также титановые сплавы. Предпочтительно, чтобы конструкционный материал или его внешний слой по отношению к покрытию состоял из сплавов с содержанием никеля выше 25 ат.%, например инвара, нихрома, монеля и других. В случае осаждения на химически активные материалы, такие как железо, углеродистые стали, нержавеющие стали,инструментальные и быстрорежущие стали,чугуны, титановые сплавы, титаносодержащие твердые сплавы, предпочтительно наносить на 7 них промежуточные покрытия, содержащие материалы, химически стойкие во фтористом водороде, выбранные из ряда медь, серебро,золото, кобальт, никель, родий, рений, платина,иридий, тантал, молибден, ниобий, ванадий,бор, путем электрохимического или химического осаждения из водных растворов, электролиза расплавов, химического или физического газофазного осаждения, например путем магнетронного распыления, и иными методами до получения толщины промежуточных слоев от 0,5 до 20 мкм. Промежуточные покрытия, полученные указанными выше методами, необходимо подвергнуть термической обработке при температуре 400-900 С в течение 0,5-1 ч в токе водорода или инертного газа. В случае осаждения на материалы, химически стойкие во фтористом водороде, такие как медь, серебро, золото, кобальт, никель, родий, рений, платина, иридий,тантал, молибден, вольфрам, ниобий, графит,карбиды и керамики, промежуточные покрытия не наносят. Различные детали сложной формы,выполненные из материала предлагаемых композитных покрытий, производятся путем осаждения их на медь, серебро, золото, кобальт, никель, родий, рений, платину, иридий, тантал,молибден, вольфрам, ниобий, графит с последующим удалением подложек путем химического, электрохимического травления или иными методами. Обезжиренные и очищенные от посторонних примесей подложки укладываются вовнутрь химического прямоточного реактора,снабженного электрическим нагревателем. Химический реактор вакуумируется при помощи форвакуумного насоса с азотной вымораживающей ловушкой до максимального разрежения и затем в реактор подается водород или аргон. После этого реактор с деталями нагревается до требуемой температуры и выдерживается при этой температуре 0,5-1 ч. Затем устанавливается необходимый расход водорода и требуемое общее давление в реакторе. Затем устанавливается необходимый расход гексафторида вольфрама, нагретого предварительно до 30 С. После выдерживания деталей в заданных условиях в течение времени, необходимого для нанесения внутреннего вольфрамового слоя, устанавливают требуемое общее давление и в реакционную смесь добавляют определенный расход углеродсодержащего газа, например пропана,предварительно нагретого до необходимой температуры. При повторении операций получают многослойное композиционное покрытие. Затем прекращают подачу газа и выдерживают подложки в течение 0,5-1 ч при неизменной температуре. После этой выдержки температура реактора снижается до комнатной при непрерывной подаче водорода или аргона. Затем подача водорода или аргона прекращается, реактор вакуумируется до максимального разрежения и в реактор пускается воздух. После чего подложки с композитным покрытием извлека 003063 8 ются из реактора. Конкретные примеры описанного выше способа нанесения композитного покрытия описаны ниже. При этом испытания на твердость и определение фазового состава покрытия осуществлялись следующим образом. Испытания на твердость Определение твердости покрытий проводили на приборе ПМТ-3. Образцы из сталей и твердых сплавов с нанесенным композитным покрытием разрезали поперек и шлифовали поперечный срез сначала абразивными шкурками,затем полировали алмазной пастой до максимально гладкой поверхности. Микротвердость покрытий определяли путем вдавливания алмазной пирамидки на приборе ПМТ-3 в середину по толщине внешнего или внутреннего слоя композитного покрытия на поперечном отполированном срезе образца. Данные усреднялись по 7-10 измерениям. По результатам исследования установлено, что микротвердость внутреннего вольфрамового слоя составляет 350-600 кг/мм 2,микротвердость монокарбида вольфрама (WC) составляет 1900 кг/мм 2, полукарбида вольфрама(W2 С) - 3000 кг/мм 2, субкарбида W3C - 3100 кг/мм 2. Субкарбид вольфрама (W12C) обладает максимальной микротвердостью, равной 3500 кг/мм 2. Смеси карбидов вольфрама между собой обладают промежуточными значениями твердости. Многослойные покрытия характеризовались средним значением твердости. В этом случае нагрузку алмазной пирамидки подбирали таким образом, чтобы отпечаток захватывал не менее четырех слоев многослойного покрытия. Измерения твердости повторяли также 7-10 раз. Определение фазового состава композитного покрытия Фазовый состав осадков определяли рентгенографическим и электронографическим методами. Рентгеноструктурные исследования проводили на дифрактометре ДРОН-3 с использованием медного излучения на плоских образцах размером 10 х 10 мм. Качественный фазовый анализ фаз W, WC, W2C, W3C, W12C, С проводили методом идентификации линий отражения по данным ASTM. Исследование фазового состава композиций карбидов вольфрама со свободным углеродом дополнительно проводили с помощью метода просвечивающей электронной микроскопии. Кроме того, определение фазового состава дополняли химическим анализом на общее содержание вольфрама, углерода и фтора. Для этого внешний слой покрытия отделяли от медной подложки растворением в азотной кислоте, затем измельчали и определяли химический состав вещества покрытия с помощью методов аналитической химии. Пример 1. Образец из углеродистой стали (Ст 3) с нанесенным на него слоем никеля толщиной 8 мкм электрохимическим способом выдерживается в печи при температуре 900 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при 9 их соотношении 0,12 в течение 5 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (С 3 Н 8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,12, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 1,8, в течение 60 мин при предварительной термоактивации С 3 Н 8 при 850 С и давлении реакционной смеси 2 кПа. В результате получаем материал, имеющий основу из стали 3 с промежуточным никелевым слоем 8 мкм и композитным покрытием с внутренним слоем вольфрама (W) толщиной 5 мкм и наружным слоем из смеси WC и свободного углерода (сажи) толщиной 40 мкм. Микротвердость покрытия - 840 кг/мм 2, покрытие с грубыми включениями сажи. Пример 2. Образец из нержавеющей стали (Х 18 Н 10 Т) с нанесенным на него слоем никеля толщиной 10 мкм электрохимическим способом выдерживается в печи при температуре 800 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,11 в течение 5 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (С 3 Н 8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,11, и соотношении С 3 Н 8 к Н 2, равном 1,6, в течение 60 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 840 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. В результате получаем материал, имеющий основу из нержавеющей стали (Х 18 Н 10 Т) с промежуточным никелевым слоем 10 мкм и композитным покрытием с внутренним слоем вольфрама (W) толщиной 5 мкм и наружным слоем из смеси WC и свободного углерода толщиной 35 мкм. Микротвердость покрытия 1150 кг/мм 2. Пример 3. Образец из нержавеющей стали(0 Х 18 Н 10 Т) с нанесенным на него слоем никеля толщиной 7 мкм электрохимическим способом выдерживается в реакционной камере при температуре 700 С в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,085 в течение 1 мин и затем в среде WF6, H2 и пропана (С 3 Н 8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,085, и соотношении С 3 Н 8 к Н 2, равном 1,2,в течение 2,0 мин при предварительной термоактивации С 3 Н 8 при 770 С и давлении реакционной смеси 5,2 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали 0 Х 18 Н 10 Т с промежуточным никелевым слоем 7 мкм и композитным покрытием с внутренним слоем вольфрама (W) толщиной 0,7 мкм и наружным слоем из WC толщиной 8 мкм. Микротвердость покрытия - 1900 кг/мм 2. Пример 4. Образец из твердого сплава ВК-10 выдерживается в реакционной камере при температуре 650 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,08 в течение 1 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана 10 ние 80 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 730 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из твердого сплава ВК-10 и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 0,7 мкм и наружного слоя из смеси W2C с WC толщиной 32 мкм. Микротвердость покрытия 2800 кг/мм 2. Пример 5. Образец из инструментальной стали 3 Х 2 В 8 Ф с нанесенным на него слоем никеля толщиной 5 мкм электрохимическим способом выдерживается в реакционной камере при температуре 600 С в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,08 в течение 2 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (С 3 Н 8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,08, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,80, в течение 30 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 700 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. Химический анализ покрытия показал содержание фтора 5.10-2 вес.%. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из инструментальной стали со слоем никеля и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 1,3 мкм и наружного слоя из W2C толщиной 9,1 мкм. Микротвердость покрытия - 2800 кг/мм 2. Пример 6. Образец из инструментальной стали Р 18 с нанесенным на него слоем никеля толщиной 5 мкм электрохимическим способом выдерживается в реакционной камере при температуре 550 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,057 в течение 5 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана(C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,057, и соотношении С 3 Н 8 к Н 2, равном 0,67, в течение 70 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 640 С и давлении реакционной смеси 5,2 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали Р 18 с промежуточным слоем никеля 5 мкм и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 3 мкм и наружного слоя из смеси W2C и W3 С толщиной 25 мкм. Микротвердость покрытия - 2950 кг/мм 2. Пример 7. Образец из инструментальной стали Х 12 Ф 1 с нанесенным на него слоем никеля толщиной 7 мкм электрохимическим способом выдерживается в реакционной камере при температуре 540 С в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (H2) при их соотношении 0,053 в течение 2 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,053, и соотношении С 3 Н 8 к Н 2, равном 0,63, в течение 40 мин при предварительной 11 термоактивации С 3 Н 8 при 635 С и давлении реакционной смеси 28 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали Х 12 Ф 1 и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 1,0 мкм и наружного слоя из W3C толщиной 18 мкм. Микротвердость покрытия - 3120 кг/мм 2. Пример 8. Образец из инструментальной стали Р 6 М 5 с нанесенным на него электрохимическим способом слоем никеля толщиной 5 мкм выдерживается в реакционной камере при температуре 520 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,045 в течение 5 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана(С 3 Н 8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,045, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,60, в течение 180 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 610 С и давлении реакционной смеси 42 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали Р 6 М 5 с промежуточным слоем никеля 5 мкм и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 3 мкм и наружного слоя из смеси W3C и W12C толщиной 100 мкм. Микротвердость покрытия - 3400 кг/мм 2. Пример 9. Образец из инструментальной стали 3 Х 2 В 8 Ф с нанесенным на него электрохимическим способом слоем никеля толщиной 5 мкм выдерживается в реакционной камере при температуре 520 С в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,044 в течение 2 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,044, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,4,в течение 160 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 600 С и давлении реакционной смеси 28 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали 3 Х 2 В 8 Ф с промежуточным слоем никеля толщиной 5 мкм и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 1 мкм и наружного слоя из W12C толщиной 78 мкм. Микротвердость покрытия - 3500 кг/мм 2. Пример 10. Образец из нержавеющей стали 2 Х 13 с нанесенным на него электрохимическим способом слоем никеля толщиной 10 мкм выдерживается в реакционной камере при температуре 520 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,070 в течение 4 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,070, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,20, в течение 60 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 650 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. 12 В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали 2 Х 13 и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 3,8 мкм и наружного слоя из смеси W12C и W толщиной 20 мкм. Микротвердость покрытия - 2150 кг/мм 2. Пример 11. Образец из сплава "монель" выдерживается в реакционной камере при температуре 580 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,085 в течение 3 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,085, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,80, в течение 60 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 680 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из сплава "монель" и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 3,5 мкм и наружного слоя из смеси W2C и W толщиной 35 мкм. Микротвердость покрытия - 1740 кг/мм 2. Пример 12. Образец из инварного сплава К 6 Н 38 Ф выдерживается в реакционной камере при температуре 590 С в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,063 в течение 3 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,063, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,63, в течение 40 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 630 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из сплава К 6 Н 38 Ф и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 3 мкм и наружного слоя из смеси W3C и W толщиной 19 мкм. Микротвердость покрытия - 1690 кг/мм 2. Пример 13. Образец из спека натуральных алмазов выдерживается в реакционной камере при температуре 520 С в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,048 в течение 1 мин и затем в среде WF6, Н 2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,048, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,65, в течение 48 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 700 С и давлении реакционной смеси 42 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из спека натуральных алмазов и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 0,8 мкм и наружного слоя из смеси W2C иW12C толщиной 12 мкм. Микротвердость покрытия - 3220 кг/мм 2. Пример 14. Образец из нихрома выдерживается в реакционной камере при температуре 560 С в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода(Н 2) при их соотношении 0,070 в течение 8 мин и затем в среде WF6, H2 и пропана (C3H8) при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,070, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,2, в течение 40 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 650 С и давлении реакционной смеси 5,2 кПа. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из нихрома и композитное покрытие, состоящее из внутреннего слоя вольфрама (W) толщиной 7 мкм и наружного слоя из смеси W и С толщиной 41 мкм. Микротвердость покрытия - 1210 кг/мм 2. Примеры на чередующиеся слои Пример 15. Образец из твердого сплава ВК 6 выдерживается в реакционной камере при температуре 620 С а) в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (H2) при их соотношении 0,08 в течение 2 мин и б) в среде WF6, H2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,08, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 1,5, в течение 16 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 750 С и давлении реакционной смеси 5,2 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 4 раза. Содержание фтора в многослойном покрытии - 9-10-3 вес.%. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из твердого сплава ВК 6 и композиционное покрытие из четырех чередующихся слоев W толщиной 3,0 мкм и WC толщиной 7,0 при соотношении их толщин 1:2,3 и общей толщиной композиционного покрытия 40 мкм. Средняя микротвердость покрытия 1320 кг/мм 2. Пример 16. Образец из твердого сплава ВК 10 выдерживается в реакционной камере при температуре 650 С а) в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,08 в течение 1 мин и б) в среде WF6, Н 2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,08, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,95, в течение 80 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 730 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 4 раза. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из твердого сплава ВК 10 и композиционное покрытие из четырех чередующихся слоев W толщиной 0,7 мкм и смеси WC с W2C толщиной 32 при соотношении их толщин 1:45,7 и общей толщиной композиционного покрытия 130,8 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2200 кг/мм 2. Пример 17. Образец из инструментальной стали(3 Х 2 В 8 Ф) с нанесенным на него слоем никеля 5 мкм электрохимическим методом выдерживается в реакционной камере при температуре 600 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,080 в течение 2 мин и б) в среде WF6, Н 2 и C3H8 при соотно 003063C3H8 к Н 2, равном 0,7, в течение 25 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 700 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 5 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали (3 Х 2 В 8 Ф) и композиционное покрытие из пяти чередующихся слоев W и W2C толщиной 1,5 и 7,5 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:5 и общей толщиной композиционного покрытия 45 мкм. Средняя микротвердость покрытия 2340 кг/мм 2. Пример 18. Образец из инварного сплава К 6 Н 38 Ф выдерживается в реакционной камере при температуре 580 С а) в среде гексафторида вольфрама(WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,060 в течение 5 мин и б) в среде WF6, Н 2 иC3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,06, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,70, в течение 40 мин при предварительной термоактивацииC3H8 при 650 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 12 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из сплава К 6 Н 38 Ф и композиционное покрытие из двенадцати чередующихся слоев W толщиной 3,0 мкм и смесиW2C с W3C толщиной 15,1 мкм при соотношении их толщин 1:5 и общей толщиной композиционного покрытия 217 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2150 кг/мм 2. Пример 19. Образец из инструментальной стали Х 12 Ф 1 с нанесенным слоем никеля толщиной 7 мкм электрохимическим методом выдерживается в реакционной камере при температуре 540 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,053 в течение 3 мин и б) в среде WF6, Н 2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,053, и соотношенииC3H8 к Н 2, равном 0,62, в течение 27 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 635 С и давлении реакционной смеси 28 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 5 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из инструментальной стали Х 12 Ф 1 и композиционное покрытие из пяти чередующихся слоев W и W3C толщиной 5 и 12 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:264 и общей толщиной композиционного покрытия 85 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2250 кг/мм 2. Пример 20. Образец из углеродистой стали 45 с нанесенным на него электрохимическим способом слоем никеля толщиной 6 мкм выдерживается в реакционной камере при температуре 540 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водоро 15 да (Н 2) при их соотношении 0,047 в течение 9 мин и б) в среде WF6, Н 2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,047, и соотношенииC3H8 к Н 2, равном 0,55, в течение 150 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 630 С и давлении реакционной смеси 5,2 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 7 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали 45 с промежуточным слоем никеля толщиной 6 мкм и композиционное покрытие из семи чередующихся слоев W и смеси W3 С с W12C толщиной 4 и 44 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:11 и общей толщиной композиционного покрытия 396 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2900 кг/мм 2. Пример 21. Образец из инструментальной стали Р 6 М 5 с нанесенным на него магнетронным распылением слоем никеля толщиной 3 мкм выдерживается в реакционной камере при температуре 520 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,050 в течение 8 мин и б) в среде WF6, Н 2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,043, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,35, в течение 11 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 650 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 11 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали Р 6 М 5 с промежуточным слоем никеля толщиной 8 мкм и композиционное покрытие из одиннадцати чередующихся слоев W и W12C толщиной 5 и 5 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:1 и общей толщиной композиционного покрытия 110 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2550 кг/мм 2. Пример 22. Образец из титанового сплава ВТ 1 с нанесенным на него магнетронным методом слоем никеля толщиной 1 мкм выдерживается в реакционной камере при температуре 600 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,045 в течение 4 мин и 6) в среде WF6, Н 2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,045, и соотношенииC3H8 к Н 2, равном 0,65, в течение 60 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 600 С и давлении реакционной смеси 42 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 15 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из сплава ВТ 1 и композиционное покрытие из пятнадцати чередующихся слоев W и смеси W2C с W12C толщиной 5,2 и 20 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:3,8 и общей толщиной композиционного покрытия 378 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2220 кг/мм 2. 16 Пример 23. Образец из нитридокремниевой керамики выдерживается в реакционной камере при температуре 510 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,045 в течение 1 мин и б) в среде WF6, Н 2 иC3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,045,и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,35, в течение 50 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 520 С и давлении реакционной смеси 42 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 12 раз. Химический анализ покрытия показал содержание фтора 3,0.10-1 вес.%. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из нитридокремниевой керамики и композиционное покрытие из двенадцати чередующихся слоев W и смеси W сW12C толщиной 0,7 и 16 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:22,8 и общей толщиной композиционного покрытия 204 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 2220 кг/мм 2. Пример 24. Образец из титанового сплава ВТ 1 с нанесенным на него слоем никеля толщиной 2 мкм магнетронным распылением выдерживается в реакционной камере при температуре 600 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,09 в течение 3 мин и б) в среде WF6, H2 и C3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,09, и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,7, в течение 40 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 720 С и давлении реакционной смеси 5,2 кПа. Операции"а" и "б" повторяются последовательно 7 раз. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из сплава ВТ 1 с промежуточным слоем никеля толщиной 2 мкм и композиционное покрытие из семи чередующихся слоев W и смеси W с W2C толщиной 4,2 и 21,5 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:5,1 и общей толщиной композиционного покрытия 179,9 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 1830 кг/мм 2. Пример 25. Образец из инструментальной стали 3 Х 3 М 3 Ф с нанесенным на него слоем никеля толщиной 6 мкм электрохимическим методом выдерживается в реакционной камере при температуре 500 С а) в среде гексафторида вольфрама (WF6) и водорода (Н 2) при их соотношении 0,055 в течение 5 мин и б) в среде WF6, Н 2 иC3H8 при соотношении WF6 к Н 2, равном 0,055,и соотношении C3H8 к Н 2, равном 0,65, в течение 120 мин при предварительной термоактивации C3H8 при 560 С и давлении реакционной смеси 8,8 кПа. Операции "а" и "б" повторяются последовательно 4 раза. В результате получаем конструкционный материал, имеющий основу из стали 3 Х 3 М 3 Ф и композиционное покрытие из четырех чере 17 дующихся слоев W и смеси W с W3C толщиной 3,8 и 44,1 мкм соответственно при соотношении их толщин 1:11,6 и общей толщиной композиционного покрытия 191,6 мкм. Средняя микротвердость покрытия - 1320 кг/мм 2. Промышленная применимость Изобретение может использоваться при упрочении стального, твердосплавного и алмазного инструмента, который применяется для обработки материалов резанием или давлением. Последнее является наиболее перспективной областью применения предлагаемой технологии в связи с отсутствием конкурирующих технологий покрытий при изготовлении прессового инструмента сложной геометрии при производстве проволоки, труб, профильной продукции из алюминия, меди, стали и других металлов и сплавов. Указанные карбидовольфрамовые покрытия можно наносить на инструменты и формы, предназначенные для формования изделий из пластмасс, силикатных масс и других абразивных смесей. Другой сферой применения является нанесение эрозионно-стойких покрытий на лопатки турбин, на насадки установок для гидроабразивной резки, обработки поверхностей, размывки породы и т.д. Изобретение перспективно для машиностроительной отрасли при изготовлении автомобилей, тракторов, дорожных машин и других агрегатов, где необходима повышенная износостойкость трущихся деталей. Высокий экономический эффект можно ожидать от нанесения указанных покрытий на прессовый инструмент (штампы, матрицы и т.д.) для изготовления машиностроительных изделий. Обширный класс нефтегазового оборудования (наземные, погружные насосы, фонтанная арматура и др.) может быть существенно улучшен при помощи износо- и коррозионностойких покрытий, полученных в соответствии с настоящим изобретением. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Материал для покрытий, устойчивых к износу, эрозии и коррозии, представляющий собой карбид вольфрама, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%. 2. Материал по п.1, представляющий собой монокарбид вольфрама WC, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%. 3. Материал по п.1, представляющий собой полукарбид вольфрама W2C, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%. 4. Материал по п.1, представляющий собой субкарбид вольфрама W3C, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%. 5. Материал по п.1, представляющий собой субкарбид вольфрама W12C, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.%. 6. Материал по пп.1-5, отличающийся тем,что он дополнительно содержит фторуглерод 003063 18 ные композиции с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. 7. Материал для покрытий, устойчивых к износу, эрозии и коррозии, представляющий собой смесь, по меньшей мере, двух карбидов вольфрама, легированных фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. 8. Покрытие, отличающееся тем, что оно включает внутренний слой, нанесенный на подложку, выполненный из вольфрама, и внешний слой, нанесенный на указанный внутренний слой и содержащий карбид вольфрама в соответствии с пп.1-6. 9. Покрытие по п.6, отличающееся тем, что внешний слой дополнительно содержит смесь карбидов вольфрама в соответствии с п.7. 10. Покрытие по п.8 или 9, отличающееся тем, что внешний слой дополнительно содержит вольфрам. 11. Покрытие по п.8 или 9, отличающееся тем, что внешний слой дополнительно содержит углерод. 12. Покрытие по любому из пп.8-11, отличающееся тем, что внутренний слой имеет толщину 0,5-300 мкм, наружный слой имеет толщину 0,5-300 мкм при соотношении толщины внутреннего и наружного слоев от 1:1 до 1:600. 13. Способ получения покрытий из карбидов вольфрама путем химического газофазного осаждения на нагретой подложке с использованием смеси газов, включающей гексафторид вольфрама, водород, углеродсодержащий газ и,не обязательно, инертный газ, отличающийся тем, что углеродсодержащий газ предварительно активируют путем нагрева до температуры 500-850 С. 14. Способ по п.13, отличающийся тем, что в качестве углеродсодержащего газа используют пропан. 15. Способ по пп.13-14, отличающийся тем, что процесс ведут при давлении 2-150 кПа,температуре подложки 400-900 С, соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,2-1,7,соотношении гексафторида вольфрама к водороду 0,02-0,12. 16. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 1,0-1,5, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,10, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 750-850 С, при этом получают монокарбид вольфрама WC. 17. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,75-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,06-0,08, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-750 С, при этом получают полукарбид вольфрама W2C. 19 18. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,05-0,055, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-720 С, при этом получают субкарбид вольфрама W3C. 19. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,45, гексафторида вольфрама к водороду 0,040-0,045, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-700 С, при этом получают субкарбид вольфрама W12C. 20. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,90-1,00, гексафторида вольфрама к водороду 0,07-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 670-790 С, при этом получают смесь карбидов WC и W2C. 21. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,75, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 580-730 С, при этом получают смесь карбидов W2C и W3 С. 22. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-700 С, при этом получают смесь карбидов W2C и W12C. 23. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,45-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,050, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 550-680 С, при этом получают смесь карбидов W3C и W12C. 24. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,65-0,70, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-710 С, при этом получают смесь карбидов W2C, W3 С и W12C. 25. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720 С, при этом получают смесь карбида WC и вольфрама. 26. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до темпе 003063 20 ратуры 600-720 С, при этом получают смесь карбида W2C и вольфрама. 27. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-700 С, при этом получают смесь карбида W3C и вольфрама. 28. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,20-0,35, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-680 С, при этом получают смесь карбида W12C и вольфрама. 29. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,05-0,07, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-680 С, при этом получают смесь карбидов W3C, W12C и вольфрама. 30. Способ по п.15, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 1,50-1,70, гексафторида вольфрама к водороду 0,10-0,12, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 750-850 С, при этом получают смесь карбида WC и углерода. 31. Способ нанесения на подложки, преимущественно на конструкционные материалы и изделия из них, покрытия, включающего в себя внутренний слой вольфрама и внешний слой, содержащий карбид вольфрама, отличающийся тем, что он включает в себя следующие стадии: а) помещение подложки в реактор химического газофазного осаждения,б) вакуумирование реактора,в) нагрев указанной подложки,г) подачу в реактор гексафторида вольфрама и водорода,д) выдерживание подложки в указанной газовой среде в течение времени, необходимого для образования на подложке слоя вольфрама,е) подачу в реактор дополнительно к указанным гексафториду вольфрама и водороду углеродсодержащего газа, причем углеродсодержащий газ предварительно термически активируют,ж) выдерживание подложки в газовой среде, образованной на стадии е), в течение времени, необходимого для образования на подложке внешнего слоя, содержащего карбиды вольфрама или их смеси между собой, с вольфрамом или свободным углеродом. 32. Способ по п.31, отличающийся тем, что процесс ведут при давлении в реакторе 2-150 кПa, температуре подложки 400-900 С, соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,2 21 1,7, соотношении гексафторида вольфрама к водороду 0,02-0,12. 33. Способ по п.31, отличающийся тем, что перед нанесением покрытия на материалы или изделия из материалов, выбранных из группы,включающей железо, углеродистые стали, нержавеющие стали, чугуны, титановые сплавы,титаносодержащие твердые сплавы, на них наносят покрытие из материалов, химически стойких во фтористом водороде, в частности никеля,кобальта, меди, серебра, золота, платины, иридия, тантала, молибдена, их сплавов, соединений и смесей, путем электрохимического или химического осаждения из водных растворов,электролиза расплавов, физического и химического газофазного осаждения. 34. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 1,00-1,50, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,10, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 750-850 С, при этом получают внешний слой, содержащий мoнокарбид вольфрама WC. 35. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,75-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,06-0,08, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-750 С, при этом получают внешний слой, содержащий полукарбид вольфрама W2C. 36. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,050-0,055, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-720 С, при этом получают внешний слой, содержащий субкарбид вольфрама W3C. 37. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,40, гексафторида вольфрама к водороду 0,040-0,045, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-700 С, при этом получают внешний слой, содержащий субкарбид вольфрама W12C. 38. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,90-1,00, гексафторида вольфрама к водороду 0,07-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 670-790 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов WC с W2C. 39. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,75, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 580-730 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидов 22 40. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,65-0,70, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-710 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидовW2C, W3C и W12C. 41. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,060, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 570-700 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидовW2C и W12C. 42. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,40-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,050, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 550-680 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидовW3 С и W12C. 43. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида W2C с вольфрамом. 44. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,60-0,65, гексафторида вольфрама к водороду 0,055-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 560-700 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида W3C с вольфрамом. 45. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,35-0,60, гексафторида вольфрама к водороду 0,050-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-690 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбидовW3C и W12C с вольфрамом. 46. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,20-0,35, гексафторида вольфрама к водороду 0,045-0,070, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 500-680 С, при этом получают внешний слой, содержащий смесь карбида W12C с вольфрамом. 47. Способ по п.32, отличающийся тем, что процесс ведут при соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,70-0,90, гексафторида вольфрама к водороду 0,08-0,09, углеродсодержащий газ предварительно нагревают до температуры 600-720 С, при этом получают внешний 23 слой, содержащий смесь карбида WC с вольфрамом. 48. Способ по любому из пп.31-47, отличающийся тем, что покрытия наносят на узлы трения. 49. Способ по любому из пп.31-47, отличающийся тем, что покрытия наносят на формующий инструмент для обработки материалов давлением. 50 Способ по любому из пп.31-47, отличающийся тем, что покрытия наносят на узлы машин и механизмов, работающих со сжатыми газами и жидкостями, или иных пневмогидравлических систем. 51. Материал, включающий подложку из конструкционного материала; нанесенное на указанную подложку покрытие, причем покрытие включает внутренний слой, выполненный из вольфрама, и внешний слой, содержащий карбид вольфрама, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. 52. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой монокарбид WC. 53. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой полукарбидW2C. 54. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид W3C. 55. Материал по п.51, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид W12C. 56. Материал, включающий подложку из конструкционного материала; нанесенное на указанную подложку покрытие, причем покрытие включает внутренний слой из вольфрама и внешний слой, содержащий смесь, по меньшей мере, двух карбидов вольфрама, легированных фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. 57. Материал по п.56, отличающийся тем,что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама WC и W2C. 58. Материал по п.56, отличающийся тем,что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W3C и W2C. 59. Материал по п.56, отличающийся тем,что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W3C и W12C. 60. Материал по п.56, отличающийся тем,что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W2C и W12C. 61. Материал по п.56, отличающийся тем,что внешний слой содержит смесь карбидов вольфрама W2C, W3C и W12C. 62. Материал по пп.52-61, отличающийся тем, что внешний слой дополнительно содержит вольфрам. 24 63. Материал по пп.52-61, отличающийся тем, что внешний слой дополнительно содержит углерод. 64. Материал по пп.52-63, отличающийся тем, что внутренний слой имеет толщину 0,5300 мкм при соотношении толщины внутреннего и внешнего слоев от 1:1 до 1:600. 65. Материал по пп.52-64, отличающийся тем, что внешний слой подложки содержит сплавы с содержанием никеля выше 25 эт.%,например инвар, нихром, монeль. 66. Материал, полученный способом по любому из пп.31-47. 67. Многослойное покрытие, выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбид вольфрама в соответствии с пп.1-6. 68. Многослойное покрытие, выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих смесь карбидов вольфрама в соответствии с п.7. 69. Многослойное покрытие по пп.67-68,отличающееся тем, что отдельные его слои имеют толщину от 2 до 10 мкм при соотношении толщины чередующихся слоев от 1:1 до 1:5. 70. Способ нанесения на подложки, преимущественно на конструкционные материалы и изделия из них, многослойного покрытия в виде чередующихся слоев вольфрама и слоев,содержащих карбид вольфрама, или их смеси между собой, с вольфрамом или свободным углеродом, включающий в себя следующие стадии: а) помещение подложки в реактор химического газофазного осаждения,б) вакуумирование реактора,в) нагрев указанной подложки,г) подачу в реактор гексафторида вольфрама и водорода,д) выдерживание подложки в указанной газовой среде в течение времени, необходимого для образования на подложке слоя вольфрама,е) подачу в реактор дополнительно к указанным гексафториду вольфрама и водороду углеродсодержащего газа, причем углеродсодержащий газ предварительно термически активируют,ж) выдерживание подложки в газовой среде, образованной на стадии е) в течение времени, необходимого для образования на подложке слоя, содержащего карбид вольфрама или смеси карбидов вольфрама между собой, с вольфрамом и углеродом, причем стадии г-ж) повторяют многократно для образования чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбиды вольфрама. 71. Способ по п.70, отличающийся тем, что процесс ведут при давлении в реакторе 2-150 кПа, температуре подложки 400-900 С, соотношении углеродсодержащего газа к водороду 0,21,7, соотношении гексафторида вольфрама к водороду 0,02-0,12. 72. Способ по п.70, отличающийся тем, что перед нанесением покрытия на материалы или изделия из материалов, выбранных из группы,включающей железо, углеродистые стали, нержавеющие стали, чугуны, титановые сплавы,титаносодержащие твердые сплавы, на них наносят покрытие из материалов, химически стойких во фтористом водороде, в частности никеля,кобальта, меди, серебра, золота, платины, иридия, тантала, молибдена, их сплавов, соединений и смесей, путем электрохимического или химического осаждения из водных растворов,электролиза расплавов, физического и химического газофазного осаждения. 73. Способ по любому из пп.70-72, отличающийся тем, что покрытие наносят на узлы трения. 74. Способ по любому из пп.70-72, отличающийся тем, что покрытие наносят на формующий инструмент для обработки металлов давлением. 75. Способ по любому из пп.70-72, отличающийся тем, что покрытие наносят на узлы машин и механизмов, работающих со сжатыми газами и жидкостями, или иных пневмогидравлических систем. 76. Конструкционный материал, включающий подложку и многослойное покрытие,выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих карбид вольфрама, легированный фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и, возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. 77. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой монокарбид вольфрама WC. 78. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой полукарбид вольфрама W2C. 26 79. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид вольфрама W3C. 80. Материал по п.76, у которого карбид вольфрама представляет собой субкарбид вольфрама W12C. 81. Конструкционный материал, включающий подложку и многослойное покрытие,выполненное из чередующихся слоев вольфрама и слоев, содержащих смесь, по меньшей мере, двух карбидов вольфрама, легированных фтором в количестве от 0,0005 до 0,5 вес.% и,возможно, фторуглеродными композициями с содержанием углерода до 15 вес.% и фтора до 0,5 вес.%. 82. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрамаWC и W2C. 83. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрамаW2C и W3C. 84. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрамаW3C и W12C. 85. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрамаW2C и W12C. 86. Материал по п.81, у которого карбидные слои содержат смесь карбидов вольфрамаW2C, W3C и W12C. 87. Материал по любому из пп.76-86, отличающийся тем, что карбидные слои дополнительно содержат вольфрам. 88. Материал по любому из пп.76-86, отличающийся тем, что карбидные слои дополнительно содержат углерод. 89. Материал по любому из пп.76-88, отличающийся тем, что отдельные его слои имеют толщину от 2 до 10 мкм при соотношении толщины чередующихся слоев от 1:1 до 1:5. 90. Конструкционный материал, полученный способом по любому из пп.70-72.

МПК / Метки

МПК: C23C 16/32, B23B 15/00

Метки: карбидовольфрамовые, способ, покрытия, изготовления

Код ссылки

<a href="http://easpatents.com/14-3063-karbidovolframovye-pokrytiya-i-sposob-ih-izgotovleniya.html" rel="bookmark" title="База патентов Евразийского Союза">Карбидовольфрамовые покрытия и способ их изготовления</a>

Похожие патенты